设计、制造、封装……集成电路长长的产业链中，又一个新的竞争焦点―――半导体设备制造业开始在申城悄悄酝酿。继应用材料、东京电子之后，日前，半导体设备制造业中又一家领军企业―――日本安内华株式会社和我国台湾弘塑科技携手，在上海投资设立安内华弘塑半导体设备有限公司。此外，有消息称，日本另外一家专门生产光刻机设备的巨头也正积极筹划在申城开设新的分公司。
　　新公司频频开张绝非偶然。业内人士指出，在全球信息经济不景气的大背景下，不少集成电路制造商纷纷缩减投资计划，直接导致上游产业―――全球半导体设备制造陷入市场低迷状态。与此截然相反的是，中国大陆的集成电路制造业正处于方兴未艾的阶段，上海更是成为一块热土。联动效应很快传递，巨大的商机面前，半导体设备商们迅即闻风而至。
　　然而在这场刚刚开始的竞争中，参与者清一色都是外资巨头。安内华的人士告诉记者，半导体设备市场上小企业或者新生企业的生存空间很小。这是一个门槛很高的行业，由于其最终产品往往一台就价值几百万元，对于购买者―――集成电路制造商来说，自然格外谨慎，谁也不敢轻易尝试新公司生产的设备。所以，目前全球的半导体设备制造能力都主要集中在美国、日本少数几个发达国家的手中，还有一些分布在韩国和我国台湾地区，“巨头垄断竞争”的特点相当明显。据悉，目前他们在上海地区的主要竞争焦点都在销售及售后服务领域，根据安内华弘塑的计划，新公司将同时负责拓展两家公司在内地的市场，并计划直接在大陆进行生产制造。记者注意到，其他几家半导体设备制造商的计划也大致相同。
　　巨大的市场潜力面前，外资巨头频频出手，本土的生产商也坐不住了。半导体设备是集成电路生产链中一个至关重要的环节，也是各国重点封锁的技术出口领域，因此对中国来说，本土半导体设备的制造能力不容或缺。日前科技部在北京宣布，总投资达200亿元的“十五”期间12个重大科技专项正式启动实施，在位列榜首的“超大规模集成电路和软件重大专项”中，“制约我国集成电路产业发展的制造装备”成了重要的突破口之一。而全国几十家装备企业参与的光刻机项目也已经全面启动，具有自主知识产权的生产大规模集成电路的关键设备―――0.1微米光刻机，今年下半年就将完成第一轮概念设计。牵头的是来自上海的电气集团。
　　外资巨头忙着开新公司，本土力量忙着起步研究，半导体设备这个新兴市场的竞争刚刚拉开序幕。